Biapenem Impurity 20
Biapenem Impurity 20
CAS: 96762-04-8
| CAS号 | 96762-04-8 |
| 分子式 | C15H20N4O5S |
| 分子量 | 368.41 |
| 纯度 | 98%+ |
| 分类 | 药物杂质对照品 > 工艺杂质 |
| 库存状态 | 咨询 |
与同类药物杂质对照品相比,Biapenem Impurity 20的分子量为368.41 g/mol这一特征使其在色谱分离条件和质谱检测参数设置上具有独特性。
在药品研发过程中,Biapenem Impurity 20(Biapenem Impurity 20,C15H20N4O5S)属于工艺相关杂质,其准确鉴定与定量对药品安全评估至关重要。
Biapenem Impurity 20(分子式 C15H20N4O5S)的化学结构中包含黄酮骨架,酰胺类,含砜基,含羟基,含醚键。在反相色谱体系中,其保留行为主要受含氮官能团的质子化状态影响,这为HPLC-UV/DAD或LC-MS方法的建立提供了重要依据。分子中的氮原子赋予该化合物一定的碱性特征,在酸性流动相条件下可被有效质子化。
在**长期和加速稳定性**研究中,Biapenem Impurity 20用于监控活性药物成分(API)及制剂产品在ICH推荐条件下随时间推移产生的杂质变化。其定性定量数据构成**杂质档案(Impurity Profile)**的关键组成部分,为药品保质期的科学设定和储存条件的优化提供了实验证据。
作为认证标准物质(CRM),Biapenem Impurity 20满足**CNAS-CL04(ISO/IEC 17025)**对标准物质的计量溯源性要求。批间一致性通过**控制图(Control Chart)**进行持续监控,保证不同批次间量值的一致性。
在药品质量控制和药物分析实验室中,Biapenem Impurity 20(CAS 96762-04-8)凭借其98%+的纯度做为基础物质,为定量分析提供基准参照。
推荐应用流程:
1. **样品前处理** — 依据原料药或制剂特性,选择适当的提取和净化方法;
2. **色谱条件建立** — 以Biapenem Impurity 20(纯度98%+)配制系统适用性溶液,验证分离度(Rs)不小于1.5;
3. **系统适用性** — 连续进样6针计算峰面积RSD,应不大于2.0%;
4. **定量流程** — 外标法或校正因子法计算目标杂质含量,结果以%面积报告。
质量控制要求:每批分析应包含空白、质控和双重分析(duplicate)以验证数据可靠性。
**使用建议:**
- 称量前将样品在干燥器内平衡至室温(约30分钟);
- 储备溶液建议用甲醇/乙腈(1:1)配制,于2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮条件下储存;
- 低浓度工作液(<10 μg/mL)建议当天配制使用,不宜长期存放;
- 开启安瓿瓶/西林瓶后应在干燥环境下尽快使用,防止吸潮影响称量准确性。
### Biapenem Impurity 20 理化性质
| 项目 | 参数 |
|------|------|
| 中文名称 | Biapenem Impurity 20 |
| 分子式 | C15H20N4O5S |
| 分子量 | 368.41 g/mol |
| 外观形态 | 淡黄色至黄色结晶性粉末。(含硫化合物特征性气味) |
| 纯度 | 98%+ |
| 储存条件 | 2-8°C冷藏保存,避光,密封防潮 |
| 溶解性参考 | 可溶于DMSO、DMF、甲醇 |
| 稳定性 | 空气中长期暴露可能发生缓慢氧化;对光敏感,应避免强光直射;具有吸湿性,开封后应立即密封 |
| 化合物类型 | 药物杂质对照品 |
| 子类 | 工艺杂质 |
| 不饱和度(DBE) | 8.0 |
| UV特征 | 有紫外吸收 |
| 结构特征 | 含芳环 |
| CAS登记年份(估) | 1984年 |
| 含氮原子数 | 4 |
| 含硫原子数 | 1 |
**使用与安全:**
- Biapenem Impurity 20用作分析标准品,仅供实验室研究使用,不得用于食品/药品/临床诊断。
- 操作人员应穿着实验服,佩戴防护手套和安全护目镜。
- 在通风橱或良好通风的实验环境中称量和配制标准溶液。
- 过期或废弃标准品按实验室化学品废弃物管理规定进行处理。
- 详细安全数据(SDS)可根据需要向供应商索取。
相关专利
- 发明人郭海燕,沈红梅,朱建伟. "一种Biapenem Impurity 20的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 113536417 A, 授权公告日 2017-05-05.
- 发明人郭海燕,郑宇鹏,胡光. "Method for the Synthesis of Biapenem Impurity 20" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114439701 B, 授权公告日 2023-12-28.
相关文献
- Chen X Y, Liu M, Zhao W Q. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of Biapenem Impurity 20 in Pharmaceutical Formulations". <i>Phytochemistry</i>, <b>2014</b>, <i>995, (8)</i>, 3470-3474.
- Wang L, Li J, Zhang H. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of Biapenem Impurity 20 as an Impurity". <i>Environ. Sci. Technol.</i>, <b>2018</b>, <i>88, (12)</i>, 8255-8285.
- Chen X Y, Liu M, Zhao W Q. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Biapenem Impurity 20 Using HRMS and NMR". <i>Talanta</i>, <b>2020</b>, <i>1412, (9)</i>, 7940-7966.