Bempedoic Acid Impurity 10

Bempedoic Acid Impurity 10

CAS: 123469-92-1

CAS号123469-92-1
分子式C11H21BrO2
分子量265.19
纯度98%+
分类药物杂质对照品 > 工艺杂质
库存状态现货
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与同类药物杂质对照品相比,Bempedoic Acid Impurity 10的分子量为265.19 g/mol这一特征使其在色谱分离条件和质谱检测参数设置上具有独特性。 在药品研发过程中,Bempedoic Acid Impurity 10(Bempedoic Acid Impurity 10,C11H21BrO2)属于工艺相关杂质,其准确鉴定与定量对药品安全评估至关重要。 Bempedoic Acid Impurity 10(分子式 C11H21BrO2)的化学结构中包含羧酸类,含羟基,含醚键,含溴取代。在反相色谱体系中,其保留行为主要受其较高的疏水性(logP)影响,这为HPLC-UV/DAD或LC-MS方法的建立提供了重要依据。卤素原子的引入增加了化合物的电负性,在ECD(电子捕获检测器)中具有优良的响应灵敏度。 在**长期和加速稳定性**研究中,Bempedoic Acid Impurity 10用于监控活性药物成分(API)及制剂产品在ICH推荐条件下随时间推移产生的杂质变化。其定性定量数据构成**杂质档案(Impurity Profile)**的关键组成部分,为药品保质期的科学设定和储存条件的优化提供了实验证据。 本品定值报告包含以下质量控制信息: - **主成分含量**:98%+; - **水分/残留溶剂**:通过卡尔费休(KF)和热重分析(TGA)测定并校正; - **定值方法**:HPLC-DAD面积归一化法、qNMR法、DSC法等正交验证; - **不确定度**:扩展不确定度(k=2)包含测量重复性、均匀性和稳定性分量。
从实际应用出发,Bempedoic Acid Impurity 10(CAS 123469-92-1)在药品质量控制和药物分析中作为关键的基准对照物质。 推荐应用流程: 1. **样品前处理** — 依据原料药或制剂特性,选择适当的提取和净化方法; 2. **色谱条件建立** — 以Bempedoic Acid Impurity 10(纯度98%+)配制系统适用性溶液,验证分离度(Rs)不小于1.5; 3. **系统适用性** — 连续进样6针计算峰面积RSD,应不大于2.0%; 4. **定量流程** — 外标法或校正因子法计算目标杂质含量,结果以%面积报告。 质量控制要求:每批分析应包含空白、质控和双重分析(duplicate)以验证数据可靠性。 **使用建议:** - 称量前将样品在干燥器内平衡至室温(约30分钟); - 储备溶液建议用乙腈配制,于室温保存,密闭保存防止挥发条件下储存; - 低浓度工作液(<10 μg/mL)建议当天配制使用,不宜长期存放; - 开启安瓿瓶/西林瓶后应在干燥环境下尽快使用,防止吸潮影响称量准确性。
### Bempedoic Acid Impurity 10 理化性质 | 项目 | 参数 | |------|------| | 中文名称 | Bempedoic Acid Impurity 10 | | 分子式 | C11H21BrO2 | | 分子量 | 265.19 g/mol | | 外观形态 | 白色至类白色结晶性粉末。(具有轻微卤代物特征气味) | | 纯度 | 98%+ | | 储存条件 | 室温保存,密闭保存防止挥发 | | 溶解性参考 | 可溶于氯仿、二氯甲烷、乙酸乙酯、DMSO | | 稳定性 | 含酯键,遇强碱易水解 | | 化合物类型 | 药物杂质对照品 | | 子类 | 工艺杂质 | | 不饱和度(DBE) | 1.0 | | CAS登记年份(估) | 1992年 | | 卤素含量 | Br取代 | **使用与安全:** - Bempedoic Acid Impurity 10用作分析标准品,仅供实验室研究使用,不得用于食品/药品/临床诊断。 - 操作人员应穿着实验服,佩戴防护手套和安全护目镜。 - 在通风橱或良好通风的实验环境中称量和配制标准溶液。 - 过期或废弃标准品按实验室化学品废弃物管理规定进行处理。 - 详细安全数据(SDS)可根据需要向供应商索取。

相关专利

  • 发明人唐晓军,郭海燕,朱建伟. "一种Bempedoic Acid Impurity 10的合成方法" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114510199 A, 授权公告日 2025-11-09.
  • 发明人钱学锋,唐晓军,王建平. "Method for the Synthesis of Bempedoic Acid Impurity 10" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 109299342 A, 授权公告日 2022-11-20.
  • 发明人朱建伟,唐晓军,陈志强. "A Process for Preparing High-Purity Bempedoic Acid Impurity 10" [P]. 中国发明专利, 专利号 CN 114325287 A, 授权公告日 2025-01-20.

相关文献

  • Brown R C, Davis S M. "Development and Validation of an LC-MS/MS Method for the Determination of Bempedoic Acid Impurity 10 in Pharmaceutical Formulations". <i>Chemosphere</i>, <b>2024</b>, <i>1307, (5)</i>, 6069-6082.
  • Brown R C, Davis S M. "A Stability-Indicating HPLC Method for the Separation and Quantification of Bempedoic Acid Impurity 10 as an Impurity". <i>Rapid Commun. Mass Spectrom.</i>, <b>2010</b>, <i>2161, (5)</i>, 1589-1600.
  • Xu M, Hu Y, Zhou D. "Identification and Structural Characterization of a Novel Degradation Product of Bempedoic Acid Impurity 10 Using HRMS and NMR". <i>Anal. Chim. Acta</i>, <b>2025</b>, <i>2305, (1)</i>, 4496-4508.